Qualité obtenue et rendement

 

Mise au point du procédé aisée

Les paramètres de l'interaction plasma/surface sont indépendants les uns des autres ce qui facilite la mise au point des procédés.
 

Qualité et densité de couches améliorées

Les paramètres d'action sur le procédé sont nombreux et indépendants ce qui permet un excellent contrôle de la qualité et des caractéristiques des dépôts.
 

Uniformité d'épaisseur

L'uniformité de l'épaisseur de la couche déposée est meilleure en rotation qu'en statique.

En statique, les différences d'épaisseurs du dépôt sont relativement faibles, elles approchent les 2% de l'épaisseur sur 300mm de distance.

Voir les exemples de résultat ici.
 

Rendement

Le rendement énergétique en production de plasma est bon.
 

Vitesse de traitement améliorée

Voir les exemples de résultat ici.